給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

描述RF濺射系統(tǒng)。

例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。