A.光刻版的精度和良率高B.可分步重復(fù)曝光C.減小了塵埃的影響D.套刻精度高
A.X-射線是非光學(xué)曝光B.電子束是非光學(xué)曝光C.非光學(xué)曝光都不需要光刻版D.EUV是非光學(xué)曝光
A.使光通過后產(chǎn)生180度相位差B.提高分辨率C.消除了圖形邊緣的衍射