多項(xiàng)選擇題

對(duì)移相掩膜（PSM）表述正確的是（）。

A.使光通過后產(chǎn)生180度相位差
B.提高分辨率
C.消除了圖形邊緣的衍射

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多項(xiàng)選擇題

對(duì)正性光刻膠特性表述正確的是（）。

A.分辨率高
B.顯影時(shí)曝光部分不溶解，未曝光部分溶解
C.分辨率低
D.顯影時(shí)曝光部分溶解，未曝光部分不溶解

多項(xiàng)選擇題

?提高光刻分辨率的途徑有（）。

A.增大數(shù)值孔徑NA
B.增大曝光波長
C.減小曝光波長
D.減小數(shù)值孔徑NA

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