問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】列舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn),干法刻蝕的不足之處是什么?

答案: 優(yōu)點(diǎn):
1.刻蝕剖面是各向異性,具有非常好的側(cè)壁剖面控制
2.好的CD控制。
3.最小的光...
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】干法刻蝕有高的還是低的選擇比?

答案: 干法刻蝕通常不能提供對(duì)下一層材料足夠高的刻蝕選擇比。
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【簡(jiǎn)答題】描述各同向性和各向異性刻蝕剖面,以及在每一種剖面中哪一種是希望的哪一種是不希望的?

答案: 各向同性的刻蝕剖面在所有方向上以相同的刻蝕速率進(jìn)行刻蝕,這將帶來(lái)不希望的線寬損失。各向異性的刻蝕剖面即刻蝕只在垂直于硅片...
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