問答題

【簡答題】什么是負膠分辨率的限制，哪種膠應(yīng)用在亞微米光刻膠中？

答案：

由于顯影時的變形和膨脹，負性光刻膠通常只有2μm的分辨率。
正性光刻膠。
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問答題

【簡答題】列出并描述兩種主要的光刻膠。
答案： 負性光刻膠和正性光刻膠。負性光刻膠是負相的掩膜圖形形成在光刻膠上、正相掩膜圖形出現(xiàn)在光刻膠上。
問答題

【簡答題】給出硅片制造中光刻膠的兩種目的。
答案：

1.將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中。
2.在后續(xù)工藝中保護下面的材料。
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