問答題

【簡答題】給出硅片制造中光刻膠的兩種目的。

答案：

1.將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中。
2.在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料。

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答案： 1氣相成底膜：第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...

【簡答題】解釋亮場掩膜版和暗場掩膜版。

答案：如果一個掩膜版，其石英板上大部分被鉻覆蓋，它就指的是暗場掩膜版。亮場掩膜版有大面積的透明的石英，而只有很細(xì)的鉻圖形。