單項(xiàng)選擇題以下不是版圖驗(yàn)證的流程是（）。?
A.DRC
B.ERC
C.CLVS
D.P&R
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1.單項(xiàng)選擇題以下集成電路版圖（Layout）設(shè)計(jì)技術(shù)及方法，不正確的是（）。
A.版圖設(shè)計(jì)之前需要科學(xué)規(guī)劃
B.合理設(shè)計(jì)金屬連線的寬度
C.襯底應(yīng)該保證良好的接地
D.電路中較長(zhǎng)的走線，不需要考慮到電阻效應(yīng)
2.單項(xiàng)選擇題集成電路設(shè)計(jì)及制造中，版圖（Layout）與掩膜（Mask）的關(guān)系是（）。?
A.根據(jù)版圖提供的信息來(lái)制造掩膜
B.根據(jù)掩膜提供的信息來(lái)設(shè)計(jì)版圖
C.版圖（Layout）與掩膜（Mask）的毫無(wú)關(guān)系
D.不確定
