負(fù)光刻膠:膠的曝光區(qū)在顯影中保留,未曝光區(qū)在顯影中除去,負(fù)膠多由長鏈高分子有機(jī)物組成
區(qū)分哪些有很低可能性通過最終掩膜檢驗(yàn)的襯底,提供工藝性能和工藝控制數(shù)據(jù),以及分揀出需要重做的襯底