問答題

【簡答題】什么是負(fù)光刻膠？

答案：

負(fù)光刻膠：膠的曝光區(qū)在顯影中保留，未曝光區(qū)在顯影中除去，負(fù)膠多由長鏈高分子有機(jī)物組成
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【簡答題】顯影為何要進(jìn)行檢查？
答案：

區(qū)分哪些有很低可能性通過最終掩膜檢驗(yàn)的襯底，提供工藝性能和工藝控制數(shù)據(jù)，以及分揀出需要重做的襯底
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【簡答題】顯影檢查內(nèi)容有哪些？
答案：

檢查內(nèi)容：掩膜版選用是否正確、光刻膠層得質(zhì)量是否滿足要求、圖形的質(zhì)量、套刻精度是否滿足要求
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