問答題

【簡答題】顯影檢查內(nèi)容有哪些？

答案：

檢查內(nèi)容：掩膜版選用是否正確、光刻膠層得質(zhì)量是否滿足要求、圖形的質(zhì)量、套刻精度是否滿足要求
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問答題

【簡答題】影響顯影的主要因素？
答案：

曝光時(shí)間、前烘的溫度和時(shí)間、光刻膠的膜厚、顯影液的濃度、顯影液的溫度、顯影液的攪動(dòng)情況
問答題

【簡答題】光刻工藝包括哪些工藝？
答案：

底膜處理、涂膠、前烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜、刻蝕、去膠、檢驗(yàn)
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