干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

描述化學(xué)機械平坦化工藝。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。