問答題

【簡答題】解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

答案： 光刻膠顯影是指用化學顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域，其主要目的是把掩膜版圖形準確復制到光刻膠中。
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【簡答題】給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
答案： 投影掩膜版是一種透明的平板，在它上面有要轉(zhuǎn)印到硅片上光刻膠層的圖形。
投影掩膜版只包括硅片上一部分圖形，而光掩膜...
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【簡答題】光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？
答案： 增大了曝光場，可以獲得較大的芯片尺寸，一次曝光可以多曝光些芯片，它還具有在整個掃描過程調(diào)節(jié)聚焦的能力。
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