問答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述CMOS IC工藝中的三種阱區(qū)形成工藝

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答案： 優(yōu)點(diǎn)：
（1）CMP可以將晶圓表面平坦化，可以允許高解析度的光刻技術(shù)。被平坦化的表面可以消除側(cè)壁變薄引起金屬導(dǎo)...
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