問答題

【簡答題】半導(dǎo)體工藝中電介質(zhì)薄膜的應(yīng)用

答案：

（1）作為鈍化保護(hù)層
（2）ILD0的摻雜物阻擋層
（3）紫外線可以穿透的保護(hù)層
（4）作為ILD材料

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【簡答題】簡述源材料擴(kuò)散穿過邊界表面時的兩種表面吸附

答案：

化學(xué)吸附：襯底表面的原子與吸附的源材料的分子內(nèi)的原子形成化學(xué)鍵；
物理吸附：吸附在源材料的表面

【簡答題】簡述CVD工藝的的工藝流程

答案：（1）氣體或氣相源材料進(jìn)入反應(yīng)器
（2）源材料擴(kuò)散穿過邊界層并接觸襯底
（3）源材料吸附在襯底表面<...

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