利用高溫驅動雜質滲透進半導體內，此工序采用的設備是（）

傳統(tǒng)的平坦化技術有（）

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

假設光刻膠的厚度是2000埃，二氧化硅的厚度為4000塊，如果要求經過30秒的刻蝕后，厚度變?yōu)?400埃，那么這個過程中刻蝕速率是（）埃/分鐘。

敘述測試晶體管的方法？

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）