離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進(jìn)行刻蝕，此時的溫度一般設(shè)置在（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）