問答題

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答案：反射切口：在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面，反射光入射到不需要曝光的光刻膠中就會形成反射切口
駐波：入射光與反射光發(fā)射...

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【簡答題】簡述正膠和負膠顯影效果

答案：正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，顯影后圖形與掩模版圖形一樣
負性光刻膠：曝光區(qū)域不溶解于顯影液，顯影后圖形與...

【簡答題】簡述光刻膠的概念及目的

答案：概念：一種有機化合物，受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化
目的：
（1）將掩模版圖案轉(zhuǎn)移到...

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