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單項(xiàng)選擇題

化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)？（）

A.還原劑
B.分散劑
C.腐蝕介質(zhì)
D.磨料

你可能感興趣的試題

多項(xiàng)選擇題

CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。

A.臺(tái)板
B.拋光液
C.拋光墊
D.夾持設(shè)備

多項(xiàng)選擇題

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

A.固結(jié)磨料CMP技術(shù)
B.無(wú)磨粒CMP技術(shù)
C.無(wú)應(yīng)力拋光技術(shù)
D.電化學(xué)機(jī)械平坦化技術(shù)

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