A.CH4
B.CH3Br
C.CH3Cl
D.CH3F
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A.由于磁的各向異性效應(yīng),使得乙烯、乙炔質(zhì)子都處在屏蔽區(qū)
B.由于磁的各向異性效應(yīng),使得乙烯、乙炔質(zhì)子都處在去屏蔽區(qū)
C、由于磁的各向異性效應(yīng),使乙烯質(zhì)子處在去屏蔽區(qū),乙快質(zhì)子處在屏蔽區(qū)
D.由于磁的各向異性效應(yīng),使乙烯質(zhì)子處在屏蔽區(qū),乙快質(zhì)子處在去屏蔽區(qū)
A.化合物中不同質(zhì)子的種類數(shù)
B.同種類H的數(shù)目
C.相鄰碳上質(zhì)子的數(shù)目
D.化合物中雙鍵的個(gè)數(shù)及位置
A.屏蔽效應(yīng)較弱,相對化學(xué)位移較大,共振峰出現(xiàn)在高場
B.屏蔽效應(yīng)較強(qiáng),相對化學(xué)位移較小,共振峰出現(xiàn)在高場
C.屏蔽效應(yīng)較強(qiáng),相對化學(xué)位移較大,共振峰出現(xiàn)在低場
D.屏蔽效應(yīng)較強(qiáng),相對化學(xué)位移較大,共振峰出現(xiàn)在高場
A.掃頻下的高頻,掃場下的高場,化學(xué)位移δ值較小
B.掃頻下的高頻,掃場下的低場,化學(xué)位移δ值較大
C、掃頻下的低頻,掃場下的高場,化學(xué)位移δ值較大
D、掃頻下的低頻,掃場下的高場,化學(xué)位移δ值較小
A.化學(xué)位移
B.偶合常數(shù)
C.偶合裂分?jǐn)?shù)
最新試題
選用ICP-AES儀器,同時(shí)可以進(jìn)行()。
ICP-AES光源分為四個(gè)區(qū)域,即()。
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X射線熒光光譜分析中,分光晶體對溫度的變化比較敏感,一般要求晶體室溫度變化在()度內(nèi)。
玻璃熔融-X熒光光譜法,目前大量應(yīng)用于鐵合金中主次元素的測定,含量范圍廣,其具有的特點(diǎn)是()。
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