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問答題
【簡答題】為什么MOS晶體管會存在飽和區(qū)和非飽和區(qū)之分(不考慮溝道調(diào)制效應)?
答案:
晶體管開通后,其漏源電流隨著漏源電壓而變化。當漏源電壓很小時,隨著漏源電壓的值的增大,溝道內(nèi)電場強度增加,電流隨之增大,...
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【簡答題】什么是溝道長度調(diào)制效應,對器件有什么影響?
答案:
MOS晶體管存在速度飽和效應。器件工作時,當漏源電壓增大時,實際的反型層溝道長度逐漸減小,即溝道長度是漏源電壓的函數(shù),這...
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【簡答題】請以PMOS晶體管為例解釋什么是襯偏效應,并解釋其對PMOS晶體管閾值電壓和漏源電流的影響。
答案:
對于PMOS晶體管,通常情況下襯底和源極都接最高電位,襯底偏壓,此時不存在襯偏效應。而當PMOS中因各種應用使得源端電位...
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