A.溶液溫度過高 B.溶液被污染 C.顯影有余膠 D.傳遞速度過快
A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài) B.等離子體蝕刻的參數(shù) C.光刻膠 D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件
A.化學(xué)藥品處理時(shí)人員會(huì)遭遇的安全問題 B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本 C.光刻膠會(huì)產(chǎn)生附著性問題 D.蝕刻不均勻