判斷題在CMP設備中被廣泛采用的終點檢測方法是光學干涉終點檢測。
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最新試題
集成電容主要有幾種結構?
題型:問答題
利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構成一個MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
題型:問答題
MOS場效應管(MOSFET)在20世紀70年代得到了廣泛的接受,從那時起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數載流子來區(qū)別。
題型:多項選擇題
硅半導體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產生的()材料等。
題型:多項選擇題
規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么?
題型:問答題
根據圖,給出M2管的漏極電流表達式。
題型:問答題
MOS器件按比例縮小后對器件特性有什么影響?
題型:問答題
從天然硅中獲得達到生產半導體器件所需純度的SGS要經過()等步驟。
題型:多項選擇題
比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
題型:問答題
集成電路電阻可以通過()產生。
題型:多項選擇題