填空題光刻包括兩種基本的工藝類型:負性光刻和(),兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同,前者是(),后者是()。
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最新試題
20世紀上半葉對半導體產業(yè)量展做出貢獻的4種不同產業(yè)主要是()。
題型:多項選擇題
什么是電阻率?它的單位是什么(國際標準單位制)?
題型:問答題
把半導體級硅的多晶硅塊,轉換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長后的單晶硅被稱為()。
題型:單項選擇題
BiCMOS技術就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結構的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結構的高電流驅動能力。
題型:多項選擇題
從天然硅中獲得達到生產半導體器件所需純度的SGS要經過()等步驟。
題型:多項選擇題
由硅片生產的半導體產品,又被稱為()。
題型:多項選擇題
晶體管的名字取自于()和()兩詞。
題型:多項選擇題
試述兩種傳輸線電感,比較其優(yōu)缺點。
題型:問答題
MOS器件存在哪些二階效應?
題型:問答題
圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。
題型:問答題