進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項(xiàng)？（）

光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括（）。

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

常壓的硅外延方法有（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。