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正光刻膠
答案:
曝光區(qū)域變軟并最后被溶解。負(fù)膠則相反。
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名詞解釋
光刻技術(shù)
答案:
圖形化工藝中將設(shè)計好的圖形從光刻板或背縮光刻板轉(zhuǎn)印到晶圓表面的的光刻膠上使用的技術(shù)。
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問答題
【簡答題】什么是駐波效應(yīng)?如何減小駐波效應(yīng)
答案:
駐波效應(yīng):當(dāng)曝光的光纖從光刻膠與襯底的界面反射時,會與入射的曝光光線產(chǎn)生干涉,會使曝光過度和不足的區(qū)域形成條紋狀結(jié)構(gòu)。<...
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