多項選擇題IC采用鋁互連系統(tǒng)時,下列哪種方法可以避免Al-Si的尖楔現(xiàn)象()
A.在淀積的鋁膜中摻入約1%Si
B.在淀積的鋁膜中摻入約1%Cu
C.在鋁膜表面覆蓋Si3N4
D.在淀積鋁之前先淀積一薄層TiN薄膜
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2.多項選擇題關于光學光刻,下列哪種方法可以獲得高分辨率()
A.光源為紫光
B.使用移相掩膜技術制備的光刻版
C.采取浸入式光刻方法
D.駐波效應對分辨率無影響
3.多項選擇題濺射與蒸鍍比較,下列那種說法正確()
A.蒸鍍工藝的普適性更好
B.濺射工藝的普適性更好
C.濺射工藝薄膜質量(如粘附性、保形性等)更好
D.蒸鍍工藝薄膜質量(如粘附性、保形性等)更好
4.多項選擇題從兩電極面積判斷射頻濺射時,靶放在那個電極上、襯底放在那個電極上()
A.襯底放在面積大的電極上
B.靶放在面積大的電極上
C.襯底放在面積小的電極上
D.靶放在面積小的電極上
5.單項選擇題為了避免尖楔現(xiàn)象用含1%硅的硅鋁合金制備IC內電極,多采用下列哪種工藝方法()
A.射頻濺射
B.LPCVD
C.電阻蒸鍍
D.PECVD