A.在淀積的鋁膜中摻入約1%SiB.在淀積的鋁膜中摻入約1%CuC.在鋁膜表面覆蓋Si3N4D.在淀積鋁之前先淀積一薄層TiN薄膜
A.光源為紫光B.使用移相掩膜技術(shù)制備的光刻版C.采取浸入式光刻方法D.駐波效應(yīng)對分辨率無影響