<table id="vbqmr"><legend id="vbqmr"><big id="vbqmr"></big></legend></table>

多項(xiàng)選擇題

關(guān)于光學(xué)光刻，下列哪種方法可以獲得高分辨率（）

A.光源為紫光
B.使用移相掩膜技術(shù)制備的光刻版
C.采取浸入式光刻方法
D.駐波效應(yīng)對分辨率無影響

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多項(xiàng)選擇題

濺射與蒸鍍比較，下列那種說法正確（）

A.蒸鍍工藝的普適性更好
B.濺射工藝的普適性更好
C.濺射工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好
D.蒸鍍工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好

多項(xiàng)選擇題

從兩電極面積判斷射頻濺射時(shí)，靶放在那個(gè)電極上、襯底放在那個(gè)電極上（）

A.襯底放在面積大的電極上
B.靶放在面積大的電極上
C.襯底放在面積小的電極上
D.靶放在面積小的電極上

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