離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質擴散的三個步驟。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質并說明它們是n型還是p型？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？