- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項
問答題
【論述題】簡述電子束光刻的光柵掃描方法和矢量掃描方法有何區(qū)別。
答案：
在光柵掃描方法中，每一個像素必須被逐次掃描。這樣，曝光時間幾乎與圖形無關(guān)，圖形就是通過打開和關(guān)閉快門寫出來的。而已經(jīng)開發(fā)...
你可能感興趣的試題
問答題
【論述題】浸沒式光刻機相對于傳統(tǒng)的光刻機有何不同。
答案：
根據(jù)瑞利判據(jù)：要提高分辨率，可以通過增大數(shù)值孔徑NA來實現(xiàn)。傳統(tǒng)曝光設(shè)備在鏡頭與硅片之間的介質(zhì)是空氣，空氣的折射率是1；...
問答題
【論述題】什么是光刻中常見的表面反射和駐波效應(yīng)？如何解決？
答案：
表面反射——穿過光刻膠的光會從晶圓片表面反射出來，從而改變投入光刻膠的光學(xué)能量。當(dāng)晶圓片表面有高...
