刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

什么是結(jié)深？

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個步驟。

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？