問答題

【論述題】浸沒式光刻機相對于傳統(tǒng)的光刻機有何不同。

答案： 根據(jù)瑞利判據(jù)：要提高分辨率，可以通過增大數(shù)值孔徑NA來實現(xiàn)。傳統(tǒng)曝光設備在鏡頭與硅片之間的介質是空氣，空氣的折射率是1；...
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問答題

【論述題】什么是光刻中常見的表面反射和駐波效應？如何解決？
答案： 表面反射——穿過光刻膠的光會從晶圓片表面反射出來，從而改變投入光刻膠的光學能量。當晶圓片表面有高...
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【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡述各步驟的作用。
答案： 涂膠→前烘→對準與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅膜→顯影檢查
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