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【論述題】浸沒(méi)式光刻機(jī)相對(duì)于傳統(tǒng)的光刻機(jī)有何不同。
答案:
根據(jù)瑞利判據(jù):要提高分辨率,可以通過(guò)增大數(shù)值孔徑NA來(lái)實(shí)現(xiàn)。傳統(tǒng)曝光設(shè)備在鏡頭與硅片之間的介質(zhì)是空氣,空氣的折射率是1;...
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問(wèn)答題
【論述題】什么是光刻中常見(jiàn)的表面反射和駐波效應(yīng)?如何解決?
答案:
表面反射——穿過(guò)光刻膠的光會(huì)從晶圓片表面反射出來(lái),從而改變投入光刻膠的光學(xué)能量。當(dāng)晶圓片表面有高...
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問(wèn)答題
【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步?簡(jiǎn)述各步驟的作用。
答案:
涂膠→前烘→對(duì)準(zhǔn)與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅(jiān)膜→顯影檢查
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