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【論述題】什么是光刻中常見(jiàn)的表面反射和駐波效應(yīng)?如何解決?
答案:
表面反射——穿過(guò)光刻膠的光會(huì)從晶圓片表面反射出來(lái),從而改變投入光刻膠的光學(xué)能量。當(dāng)晶圓片表面有高...
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【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步?簡(jiǎn)述各步驟的作用。
答案:
涂膠→前烘→對(duì)準(zhǔn)與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅(jiān)膜→顯影檢查
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【論述題】個(gè)投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源,數(shù)值孔徑為0.6,設(shè)k1=0.6,n=0.5,計(jì)算其理論分辨率和焦深。
答案:
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