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問答題

【論述題】什么是光刻中常見的表面反射和駐波效應？如何解決？

答案：表面反射——穿過光刻膠的光會從晶圓片表面反射出來，從而改變投入光刻膠的光學能量。當晶圓片表面有高...

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【論述題】典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡述各步驟的作用。

答案：涂膠→前烘→對準與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅膜→顯影檢查

【論述題】個投影曝光系統采用ArF光源，數值孔徑為0.6，設k1=0.6，n=0.5，計算其理論分辨率和焦深。

答案：

分辨率：
焦深：

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