離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。

解釋什么是暗場掩模板？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。