問(wèn)答題

【論述題】個(gè)投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源,數(shù)值孔徑為0.6,設(shè)k1=0.6,n=0.5,計(jì)算其理論分辨率和焦深。

答案:

分辨率:
焦深:

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問(wèn)答題

【論述題】在光刻中,能夠在增加分辨率的同時(shí)增加聚焦深度嗎?為什么?

答案: 不能!聚焦深度:在保持圖形聚焦的前提下,沿著光路方向晶圓片移動(dòng)的距離是聚焦深度——
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問(wèn)答題

【論述題】根據(jù)曝光方式的不同,光學(xué)光刻機(jī)可以分成幾類(lèi)?各有什么優(yōu)缺點(diǎn)?

答案: 根據(jù)曝光方式不同光學(xué)光刻機(jī)主要分為三種:接觸式,接近式,投影式。接觸式:接觸式光刻機(jī)是最簡(jiǎn)單的光刻機(jī),曝光時(shí),掩模壓在涂...
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