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【論述題】個投影曝光系統(tǒng)采用ArF光源,數(shù)值孔徑為0.6,設(shè)k1=0.6,n=0.5,計算其理論分辨率和焦深。
答案:
分辨率:
焦深:
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【論述題】在光刻中,能夠在增加分辨率的同時增加聚焦深度嗎?為什么?
答案:
不能!聚焦深度:在保持圖形聚焦的前提下,沿著光路方向晶圓片移動的距離是聚焦深度——
,...
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【論述題】根據(jù)曝光方式的不同,光學光刻機可以分成幾類?各有什么優(yōu)缺點?
答案:
根據(jù)曝光方式不同光學光刻機主要分為三種:接觸式,接近式,投影式。接觸式:接觸式光刻機是最簡單的光刻機,曝光時,掩模壓在涂...
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