問(wèn)答題簡(jiǎn)述幾種典型真空泵的工作原理。
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最新試題
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
題型:?jiǎn)柎痤}
光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是結(jié)深?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
題型:?jiǎn)柎痤}
給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。
題型:?jiǎn)柎痤}
例出光刻的8個(gè)步驟,并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
題型:?jiǎn)柎痤}
干法刻蝕的目的是什么?例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}