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問(wèn)答題
【論述題】熱退火用于消除離子注入造成的損傷，溫度要低于雜質(zhì)熱擴(kuò)散的溫度，然而，雜質(zhì)縱向分布仍會(huì)出現(xiàn)高斯展寬與拖尾現(xiàn)象，解釋其原因。
答案：
離子注入后會(huì)對(duì)晶格造成簡(jiǎn)單晶格損傷和非晶層形成；損傷晶體空位密度大于非損傷晶體，且存在大量間隙原子和其他缺陷，使擴(kuò)散系數(shù)...
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問(wèn)答題
【論述題】什么是離子分布的偏斜度和峭度，和標(biāo)準(zhǔn)高斯分布有什么區(qū)別？
答案：
非對(duì)稱(chēng)性常用偏斜度γ（skewness）表示：γ為負(fù)值表明雜質(zhì)分布在表面一側(cè)的濃度增加，即x＜R...
問(wèn)答題
【論述題】什么是離子注入的橫向效應(yīng)？同等能量注入時(shí)，As和B哪種橫向效應(yīng)更大？為什么？
答案：
橫向效應(yīng)：注入的離子在垂直于入射方向平面內(nèi)的分布情況。橫向效應(yīng)與注入離子的種類(lèi)和離子能量有關(guān)。B的橫向效應(yīng)更大，因?yàn)橘|(zhì)量...
