描述化學(xué)機械平坦化工藝。

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

描述電子回旋共振（ECR）。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

什么是結(jié)深？

描述RF濺射系統(tǒng)。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴散的三個步驟。