描述電子回旋共振（ECR）。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

解釋正性光刻和負性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？