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熱分解化學(xué)氣相淀積二氧化硅是利用()化合物,經(jīng)過(guò)熱分解反應(yīng),在基片表面淀積二氧化硅。
答案:
含有硅的化合物
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最常用的金屬膜制備方法有()加熱蒸發(fā)、()蒸發(fā)、()。
答案:
電阻;電子束;濺射
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填空題
半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)中,元件之間隔離有()()()隔離等三種基本方法.
答案:
Pn結(jié)介質(zhì);Pn結(jié)隔離;Pn結(jié)介質(zhì)混合
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