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填空題
半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)中,元件之間隔離有()()()隔離等三種基本方法.
答案:
Pn結(jié)介質(zhì);Pn結(jié)隔離;Pn結(jié)介質(zhì)混合
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二氧化硅的制備方法很多,其中最常用的是高溫()、()淀積、PECVD淀積。
答案:
氧化;氣相
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填空題
離子注入雜質(zhì)濃度分布中最重要的二個(gè)射程參數(shù)是()和()。
答案:
平均投影射程;平均投影標(biāo)準(zhǔn)差
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