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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來(lái)刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。
答案：
多晶硅等離子刻蝕用的化學(xué)氣體通常是氯氣、溴氣或二者混合氣體?？涛g多晶硅的三步工藝：
1.預(yù)刻蝕，用于去除自然氧...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？
答案：
刻蝕速率=△T/t（A/min）△T=去掉材料的厚度t=刻蝕所用的時(shí)間高的刻蝕速率，可以通過(guò)精確控制刻蝕時(shí)間來(lái)控制刻蝕的...
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
答案：
連續(xù)噴霧顯影，旋覆浸沒(méi)顯影顯影溫度，顯影時(shí)間，顯影液量，硅片洗盤，當(dāng)量濃度，清洗，排風(fēng)。
