連續(xù)噴霧顯影,旋覆浸沒顯影顯影溫度,顯影時間,顯影液量,硅片洗盤,當(dāng)量濃度,清洗,排風(fēng)。
光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢,選擇比越高,反應(yīng)速度越快,所以要比例高。