問答題

【簡答題】什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

答案：

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【簡答題】敘述氮化硅的濕法化學去除工藝。

答案：去除氮化硅使用熱磷酸進行濕法化學剝離掉的。這種酸槽一般始終維持在160℃左右并對露出的氧化硅具有所希望的高選擇比。用熱磷...

【簡答題】哪種化學氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

答案：多晶硅等離子刻蝕用的化學氣體通常是氯氣、溴氣或二者混合氣體。
刻蝕多晶硅的三步工藝：
1.預刻蝕，用于去...

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