<progress id="tpxug"><menuitem id="tpxug"></menuitem></progress>

填空題

集成電路制作工藝大體上可以分成三類，包括（）、（）、（）。

答案：圖形轉化技術；薄膜制備技術；摻雜技術

你可能感興趣的試題

制作電阻分壓器共需要三次光刻，分別是（）、（）和（）。

答案：電阻薄膜層光刻；高層絕緣層光刻；互連金屬層光刻

【簡答題】解釋質(zhì)量輸運限制CVD工藝和反應速度限制CVD工藝的區(qū)別，哪種工藝依賴于溫度，LPCVD和APCVD各屬于哪種類型？

答案：質(zhì)量傳輸限制淀積速率：淀積速率受反應物傳輸速度限制，即不能提供足夠的反應物到襯底表面，速率對溫度不敏感（如高壓CVD.。...