•蒸發(fā) •濺射 •金屬化學氣相沉積 •電鍍
最新試題
新的平坦化方法有哪幾個?()
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
進行光刻工藝前的清洗步驟是()。
影響封裝芯片特性的溫度有()。
封裝工藝中,銀漿固化的溫度為()。
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎是()。
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子?()
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關?()
金屬化中可選用的金屬材料有()。