問答題

【簡答題】簡述光刻的目的？

答案：光刻的主要目的是用來在不同的器件和電路表面形成所需的各種圖形。

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【簡答題】簡述傳統(tǒng)金屬化和雙大馬士革流程？

答案：

【簡答題】簡述主要金屬層的制備方法？

答案：

•蒸發(fā)
•濺射
•金屬化學(xué)氣相沉積
•電鍍

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