問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】分析比較CMOS工藝中LOCOS和STI兩種隔離技術(shù)的各自特點(diǎn)。

答案：

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答案：

因?yàn)镃u的互連線電阻率低，介質(zhì)層介電常數(shù)小。
多層互連對(duì)VLSI的意義：1提高集成度；2降低互連延遲3降低成本
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