多項選擇題

?CVD技術(shù)可以制備的薄膜有（）。

A.SiO₂
B.單晶硅
C.BSG
D.Si₃N₄

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多項選擇題

?濺射方法從本質(zhì)上可分為（）。

A.反應(yīng)濺射
B.直流濺射
C.磁控濺射
D.射頻濺射

多項選擇題

?集成電路制造技術(shù)中，薄膜制備技術(shù)主要包括兩大類（）。

A.薄膜生長技術(shù)
B.薄膜淀積技術(shù)
C.薄膜外延技術(shù)
D.薄膜堆疊技術(shù)

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