化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

下面哪個選項不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

光刻工藝的特點包括（）。

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括（）。

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。