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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】光刻設(shè)備主要有那些？
答案：
接觸式光刻機(jī)；接近式光刻機(jī)；掃描投影光刻機(jī)；分步重復(fù)投影光刻機(jī)；步進(jìn)掃描光刻機(jī)。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】后光刻時(shí)代有那些光刻新技術(shù)？
答案：
浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻（EUV）和無(wú)掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時(shí)代的候選技術(shù)。
