問答題

【簡答題】后光刻時代有那些光刻新技術(shù)？

答案： 浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻（EUV）和無掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時代的候選技術(shù)。
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【簡答題】紫外光的常見曝光方法有那些？
答案： 紫外（UV）的曝光方法主要有接觸式曝光、接近式曝光和投影式曝光。
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【簡答題】簡述光刻膠的成分特征。
答案： 光學(xué)光刻膠通常包含有三種成份：
①聚合物材料（也稱為樹脂）：聚合物材料在光的輻照下不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，其主要作用是...
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