<samp id="jilil"><tbody id="jilil"><bdo id="jilil"></bdo></tbody></samp>

問答題

【簡答題】亞微米CMOS IC制造廠可分為哪六種獨立的生產區(qū)？

答案：

A.擴散（包括氧化、膜淀積和摻雜工藝）
B.光刻
C.刻蝕
D.薄膜
E.離子注入
F.拋光

你可能感興趣的試題

【簡答題】簡述IC制造中一般采用的三種外延方法

答案： 1、氣相外延（VPE）：常用的硅外延方法，屬于CVD范疇
2、金屬有機CVD（MOCVD）：用來淀積化合物半導...

【簡答題】簡述HPCVD工藝的五個步驟

答案：（1）離子誘導淀積：指離子被托出等離子體并淀積形成間隙填充的現(xiàn)象
（2）濺射刻蝕：具有一定能量的Ar和因為硅片...

<table id="tsizb"><menuitem id="tsizb"><ins id="tsizb"></ins></menuitem></table>

<progress id="tsizb"><menuitem id="tsizb"></menuitem></progress>

<button id="tsizb"><legend id="tsizb"><big id="tsizb"></big></legend></button>

<tr id="tsizb"><li id="tsizb"></li></tr>